Analytik

Absorbierte Energie verursacht eine Erwärmung, welche zu Abstrahlung führt. Der Emissionsgrad gibt an, wie viel Strahlung ein Körper im Vergleich zum idealen Strahler abgibt. Wir bieten Messungen von Reflexionsgrad und Emissivität bei 82°C / 180°F im Bereich 3-30?m beliebiger Beschichtungen als Integralwert. Dabei können die Proben flach sein (Probengröße beliebig, mindestens 5,5 x 5,5cm) und es können auch Rohre vermessen werden. Das Verfahren ist zerstörungsfrei. Durch den Vergleich verschiedener Beschichtungen können Kalkulationen bzgl. Energieeinsparung/-gewinn durchgeführt werden.

Zur Prüfung der elektrischen Isolationswirkung kann die Durchschlagspannung ähnlich DIN EN ISO 2376 gemessen werden. Es können flache und nahezu flache Oberflächen vermessen werden. In der Nähe von Kanten oder scharfkantigen Winkelübergängen ist die Messung nicht zulässig. Die Prüfung ist – wenn man bis zum Funkendurchschlag misst – zerstörend. In abgewandelter Form mit „nasser“ Kontaktierung können feinste Risse an Isolierschichten festgestellt werden.

Ein Primärelektronenstrahl wird mit Hilfe einer Elektrodenkathode und Beschleunigung zur Anode hin, erzeugt und durch nachfolgende elektromagnetische Linsen auf die Oberfläche der zu untersuchenden Probe möglichst fein fokussiert. In der Probe werden in einem von der Beschleunigungsspannung und der Materialzusammensetzung abhängigem Wechselwirkungsvolumen Sekundärelektronen (SE), Rückstreuelektronen (BSE) und Röntgenstrahlung erzeugt. Die Energie der Röntgenstrahlung ist von der Ordnungszahl des emittierenden Atoms abhängig und damit für das betreffende Element „charakteristisch“. Alle diese Signale können mit entsprechenden Detektoren registriert werden. Entsprechenden Topographie-, Material- und/oder Elementkontraste können so abgebildet werden.

Der Rastersonden-Mikroskopie (SPM) liegt eine geregelte rasternde Bewegung einer spitz zulaufenden Messsonde in unmittelbarer Nähe zur Probenoberfläche zugrunde. Die erhaltenen dreidimensionalen Bildinformationen umfassen Strukturen und Rauigkeiten bis hinab zur atomaren Skala sowie lokale Materialeigenschaften. Während die Rastertunnel-Mikroskopie (STM) auf elektrisch leitfähige Werkstoffe beschränkt ist, erlauben die Varianten der Rasterkraft- Mikroskopie (AFM) auch die Untersuchung von Isolator-Oberflächen.

Die Photoelektronenspektroskopie beruht auf dem Photoeffekt: Durch Anregung mit Photonen werden aus Atomen, Molekülen oder Festkörpern Elektronen herausgelöst, deren kinetische Energie bestimmt wird. Je nach Anregungsquelle unterscheidet man zwischen XPS (X-Ray Photoelectron Spectros- copy, Anregung mit Röntgenstrahlung, Eprim > 100 eV) und UPS (Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy, Anregung mit UV-Strahlung, Eprim < 100 eV).

Die Sekundär-Ionen-Massen-Spektrometrie (SIMS) gehört zu den Ionenstrahltechniken. Die Probe wird mit Primärionen, welches einatomare oder Cluster-Ionen sein können, mit einer Energie von 0,2–25 keV beschossen. Hierbei entstehen neutrale, positiv und negativ geladene Teilchen.

Die Fourier-Transform-Infrarotspektroskopie ist ein Verfahren zur (ortsaufgelösten) Analyse funktioneller Gruppen an organischen und anorganischen Materialien und Flüssigkeiten. Bei der IR-Spektroskopie wird die zu untersuchende Probe mit Infrarotlicht be- oder durchstrahlt und der Absorptionsverlust, der bei bestimmten Wellenzahlen auftritt, im IR-Spektrometer aufgezeichnet.

Die Auger-Elektronen-Spektroskopie (AES) misst die kinetischen Energien von Auger-Elektronen, die eine Substanz bei der Anregung mit Elektronenstrahlung emittiert. Die kinetische Energie des Auger-Elektrons ist dabei charakteristisch für einzelne chemische Elemente und lässt sich daher für die Elementanalyse verwenden. Durch den Elektronenbeschuss wird ein Elektron aus einer inneren Schale herausgeschlagen und durch ein Elektron aus einem höheren Niveau aufgefüllt. Die dabei frei werdende Energie wird entweder als Röntgenstrahlung emittiert oder strahlungslos auf ein weiteres (benachbartes) Elektron übertragen, das dann freigesetzt wird.